中川・芦澤研究室 平山君が日本磁気学会学術講演会で発表しました

信州大学 長野（工学）キャンパスで開催の第46回日本磁気学会学術講演会において、令和4年9月8日に中川・芦澤研究室所属の電子工学専攻2年 平山慶明君が対面で口頭発表を行いました。
ここ2年間のオンラインでの発表とは異なり、対面での発表には緊張も見られましたが、発表後には達成感が得られました。次のステップに進むための知見も得て、今後の研究のますますの発展が期待されます。

「非磁性Cu中間層を用いたNiFeMo薄膜の軟磁性化」
平山慶明、芦澤好人、中川活二